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삼성 10nm 공정 파운드리 일정(2017년 양산예정)
게시물ID : computer_309234짧은주소 복사하기
작성자 : 한프런트
추천 : 2
조회수 : 496회
댓글수 : 2개
등록시간 : 2016/06/20 10:30:28
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10LPE

2014년 PDK 공개.
2015년 디자인 플로우, 라이브러리, IP 정비.
2016년 Risk Production 시작.

10LPP
2016년 PDK 공개.
2016년 디자인 플로우, 라이브러리, IP 정비.

2016년말 Risk Production 시작.

10nm 양산은 2017년초 예정.

14LPP -> 10LPE : 성능 +10%, 면적 -32%
14LPP -> 10LPP : 성능 +20%, 면적 -32%

10nm 시대는 오래 이어질 것.

그 후 단기간동안 ArFi(ArF Immersion) 7nm 제조가 이루어질 것.
Planar 22nm가 14nm FinFET의 중계역할이었던 것과 비슷.
ArFi 7nm에 이어 EUV 7nm가 등장할 것.

ArFi 7nm의 마스크가 80매 정도인데 반해 EUV 7nm의 마스크는 60매 정도로 감소.

구체적인 7nm 로드맵은 밝혀지지 않음
출처 http://techon.nikkeibp.co.jp/atcl/event/15/060100063/060200005/?bpnet&d=1465803445403&rt=nocnt&d=1465838719418
http://bbs2.ruliweb.daum.net/gaia/do/ruliweb/default/pc/32/read?articleId=2102111&bbsId=G003&itemId=6&pageIndex=1
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